首先，二硫化钼薄膜的制备可以采用物理气相沉积(PVD)法。这种方法主要是通过将气体中的二硫化钼源材料在真空中转化为原子或分子，然后将其沉积在基板表面上形成一层二硫化钼膜。要制备双层二硫化钼膜，必须实施一次PVD沉积步骤，然后再实施一次PVD沉积步骤。两次PVD过程中，可以使用不同的工作参数（如真空度、气体流量、材料供应速度、基板加热/冷却方式、电子流强度、脉冲时间/电流对应时间、加工时间以及最后的冷却方式）。最后，得到的是一个多层的表畸形云母膜。